5nm芯片不需要光刻机 中国科技企业已申请制造专利

近日，中国一家科技公司申请的“用于5纳米芯片制造的直接刻蚀方法”专利正式公布。

摘要表明，本发明涉及芯片设计和制造。本发明的亮点在于可以通过直接刻蚀的方式制造5纳米芯片，无需使用EUV光刻机或DUV光刻机。不需要光刻工艺。这项专利一经公布，就吸引了大量网友的关注。相信很多网友都对申请这项专利的中国科技公司感到好奇。

申请这项专利的中国科技公司名为“上海创效新技术开发有限公司”。企查查APP提供的信息显示，上海创效新技术发展有限公司于2019年3月13日正式成立，注册资本50万元。位于上海市青浦区，法定代表人为刘明革。彼亦为上海铭格化学科技有限公司股东及监事，持有上海创效新技术发展有限公司85%股份，另外15%股份由“刘家辉”。无大公司持有上海创效新技术发展有限公司新技术发展有限公司股份

工商信息显示，上海创效新技术发展有限公司注册资本包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术等领域的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。值得注意的是，该公司业务范围不涉及芯片设计、芯片制造等芯片相关内容。