ASML官网显示：支持7nm高端DUV光刻机仍可出口

荷兰政府宣布了限制某些先进半导体设备出口的新规定，该规定将于9月1日生效。具体来说，荷兰政府将要求制造先进芯片制造设备的企业在出口前必须获得许可证。

ASML在其官网发布声明称，未来该公司出口其先进浸没式DUV光刻系统（即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸没式系统）时，需要向荷兰政府申请出口许可证。和

ASML强调，该公司EUV系统的销售此前一直受到限制。

根据ASML官网提供的信息，该公司目前销售三款主流浸没式DUV光刻机：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。

理论上NXT:1980Di仍然可以达到7nm，但步骤更复杂，成本更高，而且良率也可能会损失。晶圆厂使用的光刻机大多生产14nm及以上工艺的芯片，很少去14nm以下的生产工艺，因为良率低、成本高，不具备竞争力。